對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù)，因為檢漏率，簡單易使用，儀器設(shè)備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內(nèi)不停地震蕩，并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場，因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，產(chǎn)生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。
有些真空鍍膜機真空計的讀數(shù)，與氣體種類有關(guān)，比如熱偶計，電離真空計。選用適當?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì)，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應(yīng)較慢，觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦，氬，酒精等。
真空系統(tǒng)是鍍膜機達到工藝條件的基本設(shè)備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點所致，所以真空卷繞鍍膜機設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統(tǒng)，在可能泄漏地方噴氦檢漏。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。
真空鍍膜機為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長時間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時放氣，所以這種情況需要維護，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個傳動部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時不好判斷，至于你說的真空1.9的那個其實也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。
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